低溫恒溫循環器的主要特點介紹

低溫恒溫反應浴常應用於對半導體製造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗淨轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴塗裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。並且對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標誌裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等起到很大作用。

低溫恒溫循環器主要特點

●風冷式高效全封閉製冷壓縮機,降溫速度快。

●微機智能控製,溫度**溫度。

●數顯分辨率0.1℃或0.01℃，具有溫度測量值偏差修正功能。

●溫度超溫保護,自動切斷電源並報警。

●製冷係統過熱、過流自動保護。

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